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高精度 HDI PCB 製造・組立

1-N-1、2-N-2、および全層ELICプロセスに対応。最小線幅/線間隔は1.5 milで、高集積デバイスを確実に実現できます。HDIの見積もりを今すぐ取得
8 layer 1+6+1 hdi circuit board

当社が製造するHDI PCBの種類

6 layer 1+4+1 hdi pcb

1段HDI

標準的なガラス繊維強化エポキシ基材に、銅配線層を片面だけ貼り合わせた、最もコスト効率に優れたリジッド基板構成です。シンプルな回路レイアウトに最適です。

  • 1+N+1
  • 単層ブラインドビア
  • BGAピッチ 0.65~0.8 mm
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8 layer 2+4+2 hdi board tu 768 material

2段HDI

中密度回路向けに設計されています。両面の銅配線層を高精度なめっきスルーホール(PTH)で接続し、部品を基板の両面に実装できます。

  • 2+N+2
  • スタガードビアまたはスタックドビア
  • BGAピッチ 0.4~0.5 mm
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10 layer 1+8+1 hdi board s1000 2m

全層ELIC

銅層とプリプレグ層を交互に重ねた高密度3D相互接続構造です。複雑なデジタル回路に、安定した電源分配(プレーン)と高精度なインピーダンス制御を提供します。

  • X+N+X
  • レーザーブラインドビアによる層間接続
  • BGAピッチ <0.4 mm
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HDI PCBとは?

HDI PCBとは HDI PCB(高密度相互接続プリント基板) 従来のPCBよりもはるかに小さな面積に より多くの回路を実装できるよう設計された 特殊な高性能回路基板です。

次の4つの超微細な特長を備えた基板は、 HDI PCB HDI PCBに分類されます。

  • マイクロビア: レーザーで穴を開けた、直径 $\le$ 150 µm(6 mil) のビア。機械ドリルに比べて配線スペースを大幅に節約できます。

  • ブラインドビア & 埋め込みビア:

    • ブラインドビア: 基板全体を貫通せず、外層と内層を接続します。

    • 埋め込みビア: 内部層同士のみを接続し、外部からは完全に見えません。

  • ファインライン & ファインスペース: 配線幅と間隔を 75 µm(3 mil) 以下に縮小し、非常に高密度な配線を実現します。

  • 逐次積層(SBU): 層を一度にまとめてプレスするのではなく、 1層ずつ積層、穴あけ、めっきを行います。

2+n+2 hdi pcb structure

HDI PCBの製造工程

1. コア基板の製造:

まず、標準的な内層コア(“N”層)を製造します。積層板の切断、機械ドリルによる貫通穴あけ、めっき(PTH)、回路パターンの形成を行い、自動光学検査(AOI)で内層を検査します。

2. 第1回積層(第1ビルドアップ):

プリプレグ(絶縁材)と銅箔を高温・高圧でコアの両面に積層し、外層を形成します。

3. 第1回レーザー穴あけ(L1からL2):

紫外線(UV)レーザーまたはCO2レーザーで、新しい外層から内層コアまで、超高精度で微細なマイクロビア(通常 ≤150μm)を開孔します。

4.無電解銅めっき & 電解めっき:

レーザーで開孔したマイクロビアのスミア(樹脂残渣)を除去し、化学処理で薄い無電解銅めっき層を形成した後、電気めっきを行います。スタック構造では、マイクロビアを銅で完全に充填します(ビアインパッドめっき)。

5.2回目の積層 & レーザー穴あけ:

2段階目のHDIでは、誘電体層と銅箔をさらに積層します。2回目のレーザー穴あけでは上層を加工し、スタッガードビア(オフセット配置)またはスタックドビア(最初の銅充填ビアの真上に配置)を形成します。

6.外層パターン形成 & エッチング:

高解像度のLDI(レーザーダイレクトイメージング)で、極細の外層回路パターン(通常、線幅と間隔は ≤75μm)を基板に転写します。露光されていない銅をエッチングで除去し、配線パターンを完成させます。

7.ソルダーマスク & 表面処理:

液状感光性(LPI)ソルダーマスクを塗布して硬化させます。微細なSMTおよびBGAパッドを保護するため、ENIG(無電解ニッケル/置換金めっき)やENEPIGなどの高信頼性表面処理を施します。

HDI PCBのDFMガイド

設計初期段階で改版サイクルを最小限に抑え、生産歩留まりを最大化します。
🎯 スタックドビア構成
  • 省スペース性: マイクロビアを垂直に積み重ねることで、微細ピッチBGA(ピッチ ≤ 0.4mm)に最適な高配線密度と省スペースを実現します。
  • 製造要件: 次の技術が必要です。 VIPPO(ビアインパッドめっき充填) 積層する前に、下層のマイクロビアを完全に電気めっきし、銅で充填して平坦化する必要があります。
  • DFM上の問題を防ぐには: 未充填の機械加工による埋め込みビア/スルーホールをスタックドビアの真下に配置しないでください。リフロー時にボイドやはんだ移動が発生するおそれがあります。
🌿 スタッガードビア構成
  • コスト効率に優れた選択肢: 隣接する層のマイクロビアを水平方向にずらして配置します(0.15mm以上のオフセットを強く推奨)。
  • 製造上の利点: 中間層ごとに銅を100%平坦充填する厳しい要件が不要になります。製造工程を短縮し、製造歩留まりを15%-20%向上させ、総コストを大幅に削減します。
  • DFM上の問題を防ぐには: 設計者はマイクロセクションでビアの重なり部分のクリアランスを確認し、オフセットされたビアパッドの周囲に十分な配線チャネルを確保する必要があります。
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当社が選ばれる理由

先進的なBGA向けの超微細ピッチ加工

業界をリードするレーザー穴あけ技術と微細配線リソグラフィを備え、ピッチ ≤ 0.4mmの高密度BGAに容易に対応します。層数を抑え、信号品質を最適化します。

多様な積層構造

標準的な1-N-1や2-N-2構造(スタックドビアまたはスタッガードビア)から、高度なAny-Layer ELICまで幅広いHDI構造に対応し、コスト目標とスペースの制約の両立を支援します。

妥協のないマイクロビア信頼性

最先端のビアインパッドめっき充填(VIPPO)および銅充填ビア技術を採用し、100%のマイクロセクション解析と熱衝撃試験を実施して、マイクロビアのクラックや層間剥離を防ぎます。

プロアクティブなDFMサポート

経験豊富なHDIエンジニアリングチームが、CAM工程で積層構成の最適化と製造性レビューを無償で提供し、高い歩留まりと市場投入までの期間短縮を実現します。

HDIの技術仕様

工程項目 標準対応範囲 高度な製造能力
1.構造および基本パラメータ
層数 4~20層 最大40層
HDI積層構造 1+N+1、2+N+2、3+N+3 Any-Layer ELIC(全層間接続)
基材 標準/高Tg FR-4、ハロゲンフリー Megtron 6/7、Rogersシリーズ、高速材料
基板厚 0.40 mm – 3.20 mm 0.15 mm – 6.00 mm
2. レーザー穴あけ・機械穴あけ
レーザービア径 4 mil (0.10 mm) 3 mil (0.075 mm)
レーザービアのアスペクト比 1:1 1.2:1
機械加工によるブラインドビア/埋め込みビア 8 mil (0.20 mm) 6 mil (0.15 mm)
ビア穴あけ精度 ±2 mil (±50 μm) ±1 mil (±25 μm)
3. 微細回路・リソグラフィ
最小配線幅/間隔 3 mil / 3 mil (75 μm) 1.5 mil / 1.5 mil (38 μm)
BGAピッチ対応 ≥ 0.40 mm ≤ 0.35 mm(微細ピッチ配線)
外層銅箔厚 1/3 oz – 1 oz 最大3 oz
内層銅箔厚 1/3 oz – 1 oz 最大2 oz
4. ビア加工・表面処理
マイクロビアの充填方法 銅ペースト/電気銅めっき充填 VIPPO(ビアインパッドめっき充填)
コアビアの穴埋め 非導電性エポキシ樹脂による穴埋め POFV(充填ビア上めっき)/導電性ペースト
表面仕上げ ENIG、OSP、鉛フリーHASL ENEPIG、無電解銀めっき、硬質金めっき
インピーダンス制御公差 ±10% ±5%(先進差動マトリクス)

HDI基板に関するよくある質問

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